क्वार्ट्ज बेल जार
• उच्च-शुद्धता क्वार्ट्ज ग्लास निर्माण
• अत्यधिक तापीय स्थिरता
• बेहतर रासायनिक जड़ता
• ऑप्टिकल पारदर्शिता
• परिशुद्धता मशीनी किनारे
वर्णन
आवेदन क्षेत्र
अर्धचालक एवं सूक्ष्म इलेक्ट्रॉनिक्स:
सीवीडी/पीवीडी कक्ष, लिथोग्राफी प्रणाली, आ वेफर हैंडलिंग उपकरण.
01
फोटोवोल्टिक एवं अक्षय ऊर्जा : १.
सौर कोशिका निर्माण लाइन, हाइड्रोजनीकरण रिएक्टर, आ सिलिकॉन सिक्का भट्ठी.
02
वैक्यूम एवं प्लाज्मा प्रौद्योगिकी: १.
स्पटरिंग कोटर, प्लाज्मा एचिंग मशीन, आ इलेक्ट्रॉन बीम इवेपरेटर।
03
शोध एवं विकास : १.
विश्वविद्यालय प्रयोगशाला, राष्ट्रीय शोध संस्थान (जैसे, नैनोमटेरियल संश्लेषण, संलयन ऊर्जा अनुसंधान कें लेल), आ औद्योगिक अनुसंधान आ विकास केंद्र.
04
प्रकाशिकी एवं परिशुद्धता उपकरण: 1।
लेजर, संवेदक, या खगोलीय घटक कें लेल सुरक्षात्मक बाड़े जेकरा मे स्थिर, पारदर्शी वातावरण कें आवश्यकता होयत छै.
05
गुण
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भौतिक गुण |
मूल्य |
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शुद्धता |
＞99.99% |
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घनत्व |
2.2g/सेमी3 |
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पारदर्शिता |
＞90% |
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मोहस कठोरता |
5.5--6.5 |
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विरूपण बिन्दु |
1280 डिग्री के |
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नरमी बिन्दु |
1780 डिग्री के |
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एनीलिंग प्वाइंट |
1250 डिग्री के |
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विशिष्ट ताप (20 - 350 डिग्री ) २. |
670J/किलोग्राम। डिग्री |
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तापीय चालकता (२० डिग्री ) २. |
1.4W / मीटर के। डिग्री |
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ताप चालकता (w/mk,1000 डिग्री ) |
1.0-1.2 |
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अपवर्तन सूचकांक |
1.4585 |
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तापीय विस्तार के गुणांक |
5.5*10 -7सेमी/सेमी। डिग्री |
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गरम - काम कर रहे तापमान |
१७५०--२०५० डिग्री |
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अल्पकालिक - अवधि सेवा तापमान |
1300 डिग्री के |
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दीर्घ - अवधि सेवा तापमान |
1100 डिग्री के |
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रासायनिक गुण |
मूल्य |
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एसिड प्रतिरोधी |
मजबूत एसिड(एचएफ छोड़कर),मजबूत क्षार, कार्बनिक घोल |
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उच्च तापमान जंग प्रतिरोधी |
एकदम बढ़ियां |
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धातु अशुद्धि सामग्री |
<5 पीपीएम |
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विद्युत गुण |
मूल्य |
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प्रतिरोधकता |
7*107Ω.सेमी |
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इन्सुलेशन ताकत |
250 ~ 400 केवी / सेमी |
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ढांकता हुआ स्थिरांक |
3.7~3.9 |
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ढांकता हुआ अवशोषण गुणांक |
＜4*10-4 |
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ढांकता हुआ हानि गुणांक |
＜1*10-4 |
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यांत्रिक गुण |
मूल्य |
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संपीड़न ताकत |
1100MPa के |
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झुकने की ताकत |
67MPa के |
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तन्यता ताकत |
48MPa के |
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पॉयसन के अनुपात |
0.14~0.17 |
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यंग के मॉड्यूलस |
72000MPa के |
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कतरनी मापांक |
31000MPa के |
जलयात्रा
पूछल जाए वाला सवाल
प्रश्न 1: की क्वार्ट्ज बेल जार कें उपयोग हाइड्रोफ्लोरिक एसिड (एचएफ) कें साथ कैल जा सकय छै?
A1: नै HF SiO2 के साथ प्रतिक्रिया करी क॑ सिलिकॉन टेट्राफ्लोराइड (SiF4) बनाबै छै, जेकरा स॑ अपरिवर्तनीय क्षति होय छै । एचएफ-युक्त प्रक्रियाक कें लेल पीटीएफई या फ्लोरोप्लास्टिक कक्षक कें उपयोग करूं.
प्रश्न 2: की क्वार्ट्ज बेल जार कें उच्च वैक्यूम कें तहत सील कैल जा सकय छै?
A2: हाँ, जब संगत गैसकेट (जैसे, अल्ट्रा-उच्च वैक्यूम के लेल तांबा, कम/मध्यम वैक्यूम के लेल विटन) आ निकला हुआ किनारा (10−10 mbar के लेल ISO-CF, 10−6 mbar के लेल ISO-KF) के साथ जोड़ी देल जाय छै. सुनिश्चित करूं कि सीलिंग सतह साफ आ खरोंच सं मुक्त छै.
प्रश्न 3: की क्वार्ट्ज सामग्री यूवी प्रकाश के अवरुद्ध करैत अछि ?
A3: कोनों-क्वार्ट्ज यूवी प्रकाश कें 200nm तइक संचारित करय छै, जेकरा यूवी-संवेदनशील अनुप्रयोगक कें लेल आदर्श बनायत छै. यूवी-ब्लॉकिंग जरूरतक कें लेल, विशेष लेपित क्वार्ट्ज या वैकल्पिक सामग्री उपलब्ध छै (कस्टम समाधान कें लेल हमरा सं संपर्क करूं)।
प्रश्न 4: की हम क्वार्ट्ज बेल जार मे छेद ड्रिल क सकैत छी या पोर्ट जोड़ सकैत छी?
उ4: हाँ, हमर कारखाना द्वारा परिशुद्धता मशीनिंग के माध्यम स। संरचनात्मक अखंडता आ वायुरोधकता सुनिश्चित करय कें लेल अनुकूलन कें दौरान बंदरगाह कें आकार, स्थान, आ प्रकार (गैस इनलेट, विद्युत फीडथ्रू, व्यूपोर्ट) निर्दिष्ट करूं.
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